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华体会hth体育最新登录-EUV光刻的新方法:比ASML标准更高效、更便宜

来源:ELEKTRONIK PRAXIS由于当前 EUV 光刻机结构中需要大量的光反射,大约 1% 的 EUV 能量会到达晶圆上 — — 这非常耗费成本。OIST 的设计建议改变投影路径,以此让超过

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